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第430章 国产设备的惊喜

作品:百分百胜:我在金融市场降维打击作者:小桥流水瘦马
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沈明轩预想得更简洁,打开维护盖后,光源模块、准直组件和耦合平台三块区域分得很清楚,工程师把线路接入控制台,参数面板亮起。

屏幕第一行显示耦合精度,数值比他们过去使用的日本设备低一个数量级,旁边几个年轻工程师看完,下意识交换了一下眼神。

沈明轩没有说话,他把参数菜单往下翻,停在控制模式那一栏。

日本设备用的是精密伺服闭环,参数锁得很死,优点是定位准,缺点是可调范围窄,过去他们所有波导侧壁粗糙度优化,都建立在那套设备的精密路径上。

华科精密这台样机不一样。

它用的是开环加软件补偿,机械精度不占优势,但光斑功率密度分布可以手动拉宽,补偿曲线也能开放到工程师端,屏幕上每一个参数栏都能点进去改。

沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏,手指停在触控屏边缘。

禁运公告发布后,他这几天一直在看同一个问题,如果日本设备再也进不来,光芯实验室不能一边骂禁运,一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。

只能用国产设备。

那就在国产设备的可调范围里找最优解。

之前他们卡在零点八,是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台,继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁,边缘热影响区会很不均匀,越往下调,损耗改善越小。

如果把光斑功率密度拉宽,用开环模式做更大的软件补偿,侧壁上形成的熔融层会更均匀,粗糙度也许能再往下。

沈明轩拿起记号笔,在白板上画了两条曲线。

一条窄而尖,是旧设备的光斑分布;一条宽而平,是华科样机能给出的分布。

工程师陈宇航站在旁边,看着那条宽曲线:“沈博,这样耦合效率会不会掉?”

“会掉一部分。”

沈明轩在宽曲线中段画了一个圈:“但我们不要最高耦合效率,我们要侧壁更均匀的能量分布,先试这个窗口。”

另一个工程师翻着工艺表:“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”

沈明轩点头:“三项一起动:光斑宽度、功率密度、补偿曲线,其他参数不动。”

陈宇航看了眼旧记录:“这是新窗口,没有历史数据。”

沈明轩把记号笔扣上:“没有就跑出来。”

第一轮参数调整用了很久,华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹,有两个界面跳转不顺,

…。。
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